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非標(biāo)樣品制備系統(tǒng)
非標(biāo)PLD激光脈沖沉積系統(tǒng)
將高功率脈沖激光聚焦于靶材表面，使其因高溫高壓產(chǎn)生等離子體羽輝，定向局域膨脹發(fā)射，在襯底沉積形成薄膜
系統(tǒng)主要組成：脈沖激光器、光路系統(tǒng)、沉積系統(tǒng)、RHEED監(jiān)測(cè)系統(tǒng)和控制系統(tǒng)
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商品詳情
系統(tǒng)特點(diǎn)：
1、采用高光子能量和高能量密度的紫外脈沖激光作為能源
2、適用于制備復(fù)雜成分和高熔點(diǎn)的薄膜，可實(shí)現(xiàn)靶膜材料接近一致
3、生長(zhǎng)沉積過(guò)程中可原位引入多種氣體，可在反應(yīng)氣氛中制膜
4、易于制備多層膜和異質(zhì)膜
5、兼容1至2in標(biāo)準(zhǔn)晶圓(Wafer)
6、Load Lock腔配備磁懸浮分子泵，可快速抽空
 
備案號(hào)：京ICP備20032097號(hào)